BENEQ是ALD之家。他(tā)們提供兩大(dà)産品：ALD解決方案和(hé)Lumineq顯示屏。BENEQ原子層沉積ALD解決方案提高(gāo)了(le)功率器件和(hé)光學器件的性能(néng)和(hé)耐用(yòng)性。BENEQ氣溶膠設備光學鍍膜 、 原子層沉積、BENEQ氣溶膠鍍膜、 裝飾性鍍膜 、BENEQ透明(míng)導電氧化物、 顆粒鍍膜、BENEQ 生物相容性鍍膜等都是他(tā)們的主要産品。今天小(xiǎo)編将爲大(dà)家分享有關BENEQ,芬蘭BENEQ氣溶膠設備,BENEQ原子層沉積的内容：

一、BENEQ公司簡介：
BENEQ是ALD之家。他(tā)們提供兩大(dà)産品：ALD解決方案和(hé)Lumineq顯示屏。BENEQ原子層沉積ALD解決方案提高(gāo)了(le)功率器件和(hé)光學器件的性能(néng)和(hé)耐用(yòng)性。在新興的半導體，物聯網，5G和(hé)汽車應用(yòng)中，它們具有無形的優勢。BENEQ Lumineq®顯示屏是全球透明(míng)度最高(gāo)的顯示屏。與其他(tā)任何類型的顯示器相比，Lumineq加固顯示屏更适用(yòng)于嚴苛的極端環境。全球百強企業中，有27家都是BENEQ的老(lǎo)客戶。

二、BENEQ公司産品簡介：
1.BENEQ氣溶膠設備：
①擁有緊湊型結構和(hé)優質的ALD反應器。采用(yòng)人體工(gōng)程學設計(jì)，提高(gāo)設備性能(néng)和(hé)操作(zuò)效率。模塊化設計(jì)便于快(kuài)速升級和(hé)維護。标準熱ALD設定。
②因客戶配置和(hé)附件而異，定制屬于您的R2，4個液體源。使用(yòng)标準50毫升世偉洛克容器。單晶圓反應腔。
③備件和(hé)消耗品套件。包裝以及CIP運輸至機場。設備調試和(hé)啓動（包括現(xiàn)場3天）。

2.BENEQ生物相容性鍍膜：
①BENEQ TFS 200是一款适用(yòng)于科學研究和(hé)企業研發的最靈活的ALD平台。BENEQ TFS 200是爲多用(yòng)戶研究環境中将可能(néng)發生的交叉污染降至最低(dī)而特别設計(jì)的。各種配置選項和(hé)升級意味着BENEQ TFS 200将與您一起成長，以滿足高(gāo)标準的研發需求。
②BENEQ TFS 200不僅可以在晶圓，平面物體上(shàng)鍍膜，還适用(yòng)于粉末，顆粒，多孔的基底材料，或是有高(gāo)深徑比的3D物體内沉積高(gāo)保形薄膜。
③直接和(hé)遠程等離子體沉積(PEALD)可作(zuò)爲BENEQ TFS 200的标準選項。等離子體是電容性耦合(CCP)，這(zhè)是當今的工(gōng)業标準。等離子體選件可爲直徑200毫米的基闆（面朝上(shàng)或面朝下(xià)）提供直接和(hé)遠程等離子體增強沉積(PEALD)。

3.BENEQ裝飾性鍍膜：
①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和(hé)傳感器、RF、LED、光學和(hé)高(gāo)級封裝應用(yòng)的一站(zhàn)式ALD解決方案。其采用(yòng)全新的集群設計(jì)，即在一個全自(zì)動平台上(shàng)将熱法和(hé)等離子ALD與單晶圓和(hé)批量工(gōng)藝相結合，從(cóng)而爲客戶提供了(le)卓越的靈活性。它專有的預熱模塊可減少數小(xiǎo)時(shí)的等待時(shí)間，并将生産量提升到(dào)一個全新的水(shuǐ)平：熱模式下(xià)15 wph 50 nm Al2O3。
②該産品還新增了(le)多達2個熱處理(lǐ)或等離子體模塊，從(cóng)而進一步提高(gāo)産能(néng)。BENEQ Transform™Lite和(hé)體型更大(dà)的Transform™一樣，可提供熱法和(hé)等離子ALD工(gōng)藝及預熱模塊。從(cóng)研發、原型設計(jì)到(dào)批量生産，BENEQ Transform™Lite在整個工(gōng)藝中都能(néng)發揮有效的作(zuò)用(yòng)。它能(néng)進行表面預處理(lǐ)，在3至8英寸的晶圓基底材料上(shàng)進行鍍膜。如今通過Transform™Lite，客戶可以選擇在多個設備和(hé)應用(yòng)程序上(shàng)操作(zuò)不同的ALD工(gōng)藝。而所有這(zhè)一切都是在一個平台上(shàng)完成的！
③真正的多功能(néng)性，熱法和(hé)等離子ALD。單晶圓和(hé)批量工(gōng)藝。最廣泛的高(gāo)性能(néng)氧化物和(hé)氮化物。這(zhè)些(xiē)組合最大(dà)限度地提高(gāo)了(le)批量生産的靈活選擇。

4.BENEQ原子層沉積：
①适用(yòng)于工(gōng)業OLED封裝的ALD系統，BENEQ WCS 600是用(yòng)于研發和(hé)試生産的卷對(duì)卷原子層沉積系統，特别适用(yòng)于AMOLED顯示屏、OLED照明(míng)、柔性光伏電池、電池和(hé)柔性玻璃鍍膜的應用(yòng)。将高(gāo)品質原子層沉積膜連續沉積到(dào)柔性基底卷上(shàng)，如聚合物、金(jīn)屬或紙(zhǐ)。
②對(duì)敏感基底的加工(gōng)溫度較低(dī)（<150℃），具有廣泛的工(gōng)作(zuò)壓力範圍，适用(yòng)于線路集成。系統沉積速度具有高(gāo)度拓展性，可達到(dào)10米/分鐘(zhōng)。

三、BENEQ公司産品型号：
①BENEQ M2048-B-SP
②BENEQ T560-521-312
③BENEQ AM206-12
④BENEQ GS65.40-40
⑤BENEQ 03193-4712040

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