品牌導讀：Allresist GmbH公司成立于1992年，經過28年發展，ALLRESIST開(kāi)發，生産和(hé)銷售用(yòng)于光學和(hé)電子束光刻的抗蝕劑以及用(yòng)于制造電子組件的相關工(gōng)藝化學品，專業從(cóng)事(shì)光刻工(gōng)業所需電子化學品的研發、生産和(hé)銷售，總部位于德國。開(kāi)發，生産和(hé)用(yòng)于光學和(hé)電子束光刻以及與這(zhè)些(xiē)抗蝕劑的電子元器件的制造相關聯的相應處理(lǐ)的化學品分配抗蝕劑。德國ALLRESIST主要産品包括：Allresist光刻膠、Allresist電子束光刻膠等，公司通過了(le)ISO9001産品質量管理(lǐ)認證和(hé)ISO14001環境管理(lǐ)體系認證。華聯歐小(xiǎo)編今天爲大(dà)家帶來(lái)的内容是ALLRESIST,德國ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠，希望大(dà)家喜歡，接下(xià)來(lái)我們一起去看(kàn)看(kàn)吧!

一、ALLRESIST公司簡介
ALLRESIST GmbH回到(dào)六十年代的根源。在“Fotochemische Werke柏林(lín)”(ORWO),研究項目啓動了(le)複印塗料的發展。已經在1965年,第一個工(gōng)作(zuò)光緻抗蝕劑的基礎上(shàng)肉桂酸用(yòng)于生産的晶體管。年代,開(kāi)發工(gōng)作(zuò)力度和(hé)研究部門(mén)擴大(dà)到(dào)100名員工(gōng)。大(dà)規模生産的新生産設施成立于1987年,生産和(hé)改進版本的抗拒這(zhè)個設施仍ALLRESIST今天提供的。在1992年試圖抵制生産私有化後失敗了(le),部門(mén)被關閉。他(tā)們在光刻膠開(kāi)發方面的經驗基于悠久的傳統。作(zuò)爲柏林(lín)世界攝影博物館的衍生産品，他(tā)們可以借鑒30多年的研究成果。Allresist成立于1992年10月16日。您可以在這(zhè)裏找到(dào)他(tā)們過去二十年的研究項目。

歡迎使用(yòng)ALLRESIST-攝影和(hé)電子束抗蝕劑專家。ALLRESIST開(kāi)發，生産和(hé)銷售用(yòng)于光學和(hé)電子束光刻的抗蝕劑以及用(yòng)于制造電子組件的相關工(gōng)藝化學品。可抵抗所有大(dà)小(xiǎo)的光刻和(hé)電子束光刻的所有标準工(gōng)藝。交貨時(shí)間短，小(xiǎo)巧的1/4升容器，低(dī)價的測試樣品以及專業的建議(yì)是他(tā)們服務的一部分。10位高(gāo)素質，敬業的員工(gōng)結合了(le)能(néng)力和(hé)創新精神，緻力于公司的理(lǐ)念：隻有滿意的客戶和(hé)員工(gōng)才能(néng)獲得市場成功。您可以在此處找到(dào)有關他(tā)們的環境和(hé)質量政策的更多信息。唯一可能(néng)的方式保存非常抵制技術是成立一個新的大(dà),小(xiǎo),高(gāo)生産力的公司——ALLRESIST GmbH。

二、ALLRESIST産品介紹
1、ALLRESIST AR-P 5300剝離技術光刻膠系統
①AR-P 5300系列的正型光刻膠用(yòng)于通過剝離技術生産底切結構(剝離)，以生産氣相沉積圖案，尤其是金(jīn)屬。底切輪廓是在通常的光刻工(gōng)藝中獲得的，而無需額外(wài)的技術，時(shí)間和(hé)能(néng)源消耗。
②該抗蝕劑的特征在于對(duì)光的高(gāo)靈敏度，優異的分辨能(néng)力以及對(duì)金(jīn)屬和(hé)氧化物表面的良好(hǎo)粘附性。它們包含在加熱闆上(shàng)和(hé)對(duì)流烤箱中正常回火期間會(huì)硬化抗蝕劑表面的成分。
③抗蝕劑結構的底切在堿性水(shuǐ)溶液顯影期間形成。雖然AR-P 5350在1-2μm的标準層厚度範圍内使用(yòng)，但(dàn)新開(kāi)發的抗蝕劑AR-P 5320也(yě)可用(yòng)于創建5-10μm的剝離結構。
④抗蝕劑由安全溶劑-溶劑混合物中的酚醛清漆-萘醌二疊氮化物-與主要成分1-甲氧基-2-丙基-乙酸酯組成。

2、ALLRESIST光阻AR-BR 5400
①首先，塗覆PMMA共聚物AR-BR 5400。
②然後将光緻抗蝕劑AR-P 3510施加到(dào)退火的共聚物層上(shàng)。
③可以以堿水(shuǐ)溶液的方式顯影兩層浮渣系統。将抗蝕劑溶解在更安全的溶劑-溶劑混合物中。
④AR-BR 5400抗蝕劑是基于甲基丙烯酸甲酯和(hé)甲基丙烯酸的共聚物，主要成分爲1-甲氧基-2-丙醇。
⑤AR-P 3510是一種線型酚醛清漆-萘醌二疊氮化物的組合，主要存在于乙酸1-甲氧基-2-丙酯中。

3、ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-PC 5090和(hé)AR-PC 5091(Electra 92)
①保護塗層AR-PC 5090和(hé)AR-PC 5091(Electra 92)是導電保護塗層。
②它們的功能(néng)是創建薄的導電層。
③AR-PC 5090設計(jì)用(yòng)于PMMA-E-Beam，CSAR 62和(hé)HSQ抗蝕劑，而AR-PC 5091可與基于Novolak的E-Beam抗蝕劑一起使用(yòng)。兩者都主要用(yòng)于導出電子輻射産生的電荷。
④抗蝕劑通過旋塗施加。取決于旋轉速度，所得層厚度爲30-80 nm，噴砂後用(yòng)去離子水(shuǐ)去除該層。這(zhè)些(xiē)解決方案的保質期超過一年。
⑤抗蝕劑由聚苯胺，表面活性劑和(hé)水(shuǐ)/醇的混合物組成。

三、ALLRESIST主要産品和(hé)型号
1、ALLRESIST主要産品
①德國ALLRESIST光刻膠
②德國ALLRESIST電子束光刻膠
③德國ALLRESIST光緻抗蝕劑
④德國ALLRESIST電子束抵制
⑤德國ALLRESIST紫外(wài)光刻膠

2、ALLRESIST産品型号
①德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-PC 5090-5091（Electra 92）
②德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑50K，200K，600K，950K
③德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-P 6200（CSAR 62）
④德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-P 6500
⑤德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-P 7400
⑥德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-N 7500、7520
⑦德國ALLRESIST産品電子束抗蝕劑AR-N 7700、7720
⑧ALLRESIST光刻膠ARP 672.11
⑨德國ALLRESIST光刻膠AR-P 1200，AR-N 2200
⑩德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3100
⑪德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3200
⑫德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3500（T）
⑬德國ALLRESIST光刻膠AR-P 3700、3800 VLSIC

四、德國ALLRESIST光刻膠産品特點
1.光刻膠類型齊全，可以滿足用(yòng)戶的各種工(gōng)藝要求。
産品類型包括:紫外(wài)光刻膠(正片或負片)、剝離工(gōng)藝膠、LIGA膠、圖案反轉膠、化學放(fàng)大(dà)膠、抗蝕保護膠、聚酰亞胺膠、全息曝光膠、電子束光刻膠(包括聚甲基丙烯酸甲酯膠、電子束負片膠、三維曝光膠(灰色曝光膠)、混合曝光膠等。)
2.光刻膠封裝規格靈活多樣，适合各種規模的生産和(hé)科研需求。
包裝規格包括:250ml、1l、2.5l等常規包裝，以及30ml、100ml等測試用(yòng)小(xiǎo)包裝。
3.交貨時(shí)間短。
我們在每個月的20号左右向德國制造商下(xià)訂單。産品将在第二個月中旬到(dào)達。你(nǐ)可以根據實際情況合理(lǐ)安排采購時(shí)間。請(qǐng)聯系我們的銷售人員了(le)解訂單詳情。
4.它可以提供高(gāo)水(shuǐ)平的技術咨詢服務，并有能(néng)力爲特殊和(hé)複雜(zá)的工(gōng)藝開(kāi)發和(hé)定制光刻産品。
5.儲存條件:
儲存在一個封閉的容器中，并放(fàng)在一個黑暗、幹燥、涼爽、通風(fēng)良好(hǎo)的地方。儲存在合适的溫度下(xià)。

​完畢，以上(shàng)就是今日小(xiǎo)編爲大(dà)家分享的關于ALLRESIST,德國ALLRESIST光刻膠,ALLRESIST電子束光刻膠的全部産品内容了(le)，本文(wén)資料及圖片來(lái)源于網絡，如有侵權請(qǐng)聯系删除！如您還有其它問題要咨詢，可以通過QQ、E-mail、電話(huà)、傳真、留言等聯系我們!

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